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硅晶片真空高溫烤箱 真空烘箱

硅晶片真空高溫烤箱 真空烘箱

更新時間:2023-02-01

產(chǎn)品特點:
硅晶片真空高溫烤箱,也稱為真空高溫烤箱,真空烤箱,高溫真空烘箱,真空干燥箱,真空烘箱,精密真空烤箱,實驗室真空干燥箱。
產(chǎn)品介紹

一、硅晶片真空高溫烤箱技術(shù)參數(shù):

型號:HE-ZK-300/400/500/600/800/1000

內(nèi)箱尺寸(寬*高*深):300X300X300、400X400X400、500X500X500、600X600X600、800X800X800、1000X1000X1000(MM)

外形尺寸(寬*高*深):600X470X710、700X570X810、800X670X910、900X870X1010、1100X1070X1210、1200X1270X1410(MM)

隔層:箱內(nèi)分為二層,配不銹鋼網(wǎng)板二個,可活動抽出;

門上有玻璃視窗:鋼化玻璃(無照明)

內(nèi)材質(zhì)為:304#不銹鋼工業(yè)板,加強處理,抽真空不變形;

外材質(zhì)為:冷軋鋼板,厚1.2mm,粉體烤漆處理;

保溫材質(zhì)為:耐高溫巖棉,保溫效果好;

密封材質(zhì)為:耐高溫硅膠條;

使用電源:AC 單相 三線 220V 50HZ

二、硅晶片真空高溫烤箱控溫系統(tǒng)

1)  溫度范圍:室溫~200℃

2)  升溫速率:RT~100℃(約15~20分鐘)

3)  顯示精度:0.1℃

4)  箱內(nèi)溫度均勻度:±5℃

5)  加熱體:為耐高溫發(fā)熱管

6)  加熱技術(shù):采用三面加熱的熱輻射的方式

三、真空系統(tǒng)

1.真空度范圍:0.1Kpa~101Kpa(常壓為101PKa,真空表為負壓表即顯示相對值壓力)

2.真空表顯示精度:0.1KPa

3.漏氣率:≤500Pa/小時

4.解壓方式:直接充入環(huán)境空氣

5.真空泵:1臺(XD-40)

四、設(shè)備結(jié)構(gòu)

1.內(nèi)箱采用SUS304#不銹鋼材料,外殼采用冷軋鋼板制造,表面靜電噴塑;

2.本機箱門松緊可由客戶任意調(diào)節(jié),整體成形的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)高真空度;

3.控制面板采用微電腦智能PID控制,具有定時和超溫報警功能;

4.箱門采用鋼化、防爆雙層玻璃門,使觀察工作室培養(yǎng)物品一目了然。

五、保護系統(tǒng)

A.超溫保護系統(tǒng):機臺在整機的供電輸入處,加裝了超溫保護系統(tǒng)及功率過大時自動熔斷保險絲系統(tǒng);

B.高溫保護系統(tǒng):當由于外力原因?qū)е聹囟仁Э貢r,本系統(tǒng)會在超過設(shè)定溫度10度時自動停止加熱供電,從而保護你的產(chǎn)品及機器的安全;

C.過流保護系統(tǒng):當由于外加電壓過高或其它原因?qū)е抡麢C的功率超出正常功率時,本系統(tǒng)會自動斷電保護整機的工控組件不被損壞。



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